Hybrid PVD-PECVD Process and Its Application for Carbon Ritch Nanocomposite Thin Film Deposition

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza SOUČEK Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2012
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Vrstvy a povlaky 2010: Zborník prednášok
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	hybrid PVD-PECVD; magnetron sputtering
Popis	This paper dsiscusses the tybrid PVD-PECVD process and its application for carbon ritch nanocomposite thin film deposition
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev