Influence of hydrogen on behaviour of reactive magnetron sputtering

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	NEKVAPIL Jakub VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza
Rok publikování	2012
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass: Book of Extended Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive magnetron sputtering; hydrogen
Popis	This work studies reactive magnetron sputtering in mixtures of the gases Ar, O2 and H2. The main part is formed by analyzes the hysteresis of the deposition process for the mixtures Ar+O2, Ar+H2 separately and comparison of the results with behaviour of the system for the Ar+O2+H2 mixture. Behaviour of the system is studied for the case of deposition titanium oxide layer.
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev