Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2012
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Chemické listy
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive magnetron sputtering; modelling; target utilization
Popis	The paper deals with modelling of reactive magnetron sputtering of titanium with focus on changes in target utilization.
Související projekty:	Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev