Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films
| Název česky | Elipsometrická charakterizace nehomogenních nestechiometrických vrstev nitridu křemíku |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2013 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Surface and Interface Analysis |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/sia.5250/abstract |
| Doi | http://dx.doi.org/10.1002/sia.5250 |
| Obor | Optika, masery a lasery |
| Klíčová slova | optical characterization; variable-angle spectroscopic ellipsometry; phase-modulated ellipsometry; inhomogeneous films; silicon nitride films |
| Přiložené soubory | |
| Popis | Víceúhlová spektroskopická elipsometrie je využita k optické charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku vykazujících nehomogenitu tvořenou změnami indexu lomu a extinkčního koeficientu napříč tloušťkou vrstvy. Pro všechny vzorky je dosaženo nejlepšího fitu experimentálních dat, pokud se k nehomogenitě navíc předpokládá horní vrstva nebo drsnost horního rozhraní. Rozlišit mezi těmito dvěma defekty bylo ovšem shledáno nemožným. Je studován vliv poměru pracovních plynů, deposiční teploty a střídy na vlastnosti vrstev. Je shledáno, že index lomu a extinkční koeficient roste s rostoucím poměrem pracovních plynů a méně významně s klesající deposiční teplotou. Dále je shledáno, že nehomogenita roste s rostoucí deposiční teplotou a deposiční rychlost klesá s rostoucím poměrem pracovních plynů. Vliv střídy na vlastnosti vrstev je prakticky nedůležitý. |
| Související projekty: |