X-Ray Nano-Diffraction on Epitaxial Crystals

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Středoevropský technologický institut. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Rtg nano-difrakce na epitaxních krystalech
Autoři

MEDUŇA Mojmír FALUB Claudiu Valentin ISA Fabio CHRASTINA Daniel KREILIGER Thomas ISELLA Giovanni TABOADA Alfonso NIEDERMANN Philippe VON KÄNEL Hans

Rok publikování 2014
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Quantum Matter
Fakulta / Pracoviště MU

Středoevropský technologický institut

Citace
www http://www.ingentaconnect.com/content/asp/qm/2014/00000003/00000004/art00002
Doi http://dx.doi.org/10.1166/qm.2014.1127
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova defect-free; epitaxial ge-crystals; lattice mismatch; si substrates; thermal expansion mismatch; x-ray nanodiffraction
Popis Koncept růstu epitaxních Ge a SiGe krystalů na vysokých Si pilířích může poskytovat řešení problémů spojených s rozdílním mřížkovým parametrem a tepelnou roztažností, dislokace, ohyb desek a praskání. Omezená šířka rozlišení svazku odhaluje že epitaxní struktury se vyvinou v perfektní dokonalé krystaly daleko do tžce narušeného povrchu.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info