Preparation of (001) preferentially oriented titanium thin films by ion-beam sputtering deposition on thermal silicon dioxide

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Středoevropský technologický institut. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	GABLECH Imrich SVATOŠ Vojtěch CAHA Ondřej HRABOVSKY Milos PRASEK Jan HUBÁLEK Jaromír ŠIKOLA Tomáš
Rok publikování	2016
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of materials science
Fakulta / Pracoviště MU	Středoevropský technologický institut
Citace
www	http://link.springer.com/article/10.1007%2Fs10853-015-9648-y
Doi	http://dx.doi.org/10.1007/s10853-015-9648-y
Obor	Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Klíčová slova	titanium; sputtering; x-ray diffraction
Popis	We propose the ion-beam sputtering deposition providing Ti thin films of desired crystallographic orientation and smooth surface morphology not obtainable with conventional deposition techniques such as magnetron sputtering and vacuum evaporation.
Související projekty:	CEITEC - středoevropský technologický institut CEITEC - open access