Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	ZAJÍČKOVÁ Lenka OHLÍDAL Ivan JANČA Jan
Rok publikování	1996
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Thin Solid Films
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	PECVD; TEOS
Související projekty:	Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek