Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R &gt;= 98,5 % @ 248 nm a R &gt;= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45.

Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45.

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	PEKAŘ Václav BŘEZINA Jaromír ŠKODA David OHLÍDAL Ivan VOHÁNKA Jiří FRANTA Daniel FRANTA Pavel DVOŘÁK Jan OHLÍDAL Miloslav ŠULC Václav KLAPETEK Petr HAVLÍČEK Marek
Rok publikování	2021
Druh	Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Popis	Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.
Související projekty:	Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra