Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	BURŠÍKOVÁ Vilma DVOŘÁK Pavel ZAJÍČKOVÁ Lenka KLAPETEK Petr BURŠÍK Jiří JANČA Jan
Rok publikování	2003
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of SAPP XIV
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	discharge conditions; mechanical properties; plasma deposited films
Popis	Hard diamond like carbon films with insorporation of SiOx were deposited from mixture of methane and HMDSO. The Hardness, elastic modulus, interfacial fracture toughness and their dependence on the HMSDO to methane ratio were studied. The correlation between the discharge parameters and the film properties was determined.
Související projekty:	Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek