Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
Autoři	FRANCLOVÁ Jana KUČEROVÁ Zuzana BURŠÍKOVÁ Vilma ZAJÍČKOVÁ Lenka PEŘINA Vratislav
Rok publikování	2004
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Czech. J. Phys.
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Deposited films; plasma enhanced CVD; HMDSO; FTIR; RBS
Popis	Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
Související projekty:	Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek