Deposition of thin organosilicon polymer films in atmospheric pressure glow discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Depozice tenkých organosilikonových polymerních vrstev v doutnavém výboji za atmosférického tlaku
Autoři	TRUNEC David NAVRÁTIL Zdeněk SŤAHEL Pavel ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma ČECH Jan
Rok publikování	2004
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Journal of physics D: Applied physics
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://www.iop.org/EJ/article/0022-3727/37/15/010/d4_15_010.pdf
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	atmospheric presure glow discharge; nitrogen; deposition; organosilicon
Popis	Doutnavý výboj za atmosférického tlaku (APGD) hořící v dusíku s malou příměsí organosilikonových sloučenin jako hexametyldisilazan nebo hexametydisiloxan byl použit pro depozici tenkých polymerních vrstev.
Související projekty:	Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Depozice tenkých vrstev a modifikace povrchů v tichém a doutnavém výboji za atmosférického tlaku Využití povrchového výboje buzeného za atmosferického tlaku pro modifikaci povrchů a depozici ochranných polymerních vrstev Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek