Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Elektrické vlastnosti tenkých vrstev vytvořených PECVD
Autoři	FRANCLOVÁ Jana KUČEROVÁ Zuzana BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2005
Druh	Odborná kniha
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	MIM struktury vykazují různé vodivostní mechanismy,které lze rozdělit do dvou základních skupin "electrode-limited" a "bulk-limited" mechanismy. Tenké vrstvy vytvořené PECVD vykazují Poole-Frenkelovu vodivost při nižších napětích a Fowler-Nordheimovu při vyšších napětích.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek