Microwave PECVD of nanocrystalline diamond with rf induced bias nucleation

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Depozice nanokystalickéhi diamantu metodou mikrovlnného PECVD s nukleací pomocí rf predpětí
Autoři	FRGALA Zdeněk JAŠEK Ondřej KARÁSKOVÁ Monika ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma FRANTA Daniel MATĚJKOVÁ Jiřina REK Antonin KLAPETEK Petr BURŠÍK Jiří
Rok publikování	2006
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Czechoslovak Journal of Physics B
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	nanocrystalline diamond; plasma enhanced chemical vapor deposition; self-bias
Popis	Vrtsvy nanokrystalického diamantu byly připraveny metodou mikrovlnného CVD v reaktoru typu ASTEX na leštěných n-typ dopovaných křemíkových substrátech s orientací (111). Depoziční směs obsahovala 9% metanu ve vodíku. Dodávaný mikrovlnný výkon (2,45 GHz) byl 850 W a tlak byl 7,5 kPa. Teplota substrátu byla 1090 K. Nukleační proces probíhal za pomocí předpětí(-125 V) vytvářeného pomocí vysokofrekvenčního výboje. Deponované vrstvy se jevily jako velmi hladké ( rms tloušťky 9,1 nm). Tvrdost a elastický modul byly 70 a 375 GPa. Optické konstanty byly určeny kombinací spektroskopické elipsometrie a refletometrie za použití Rayleigh-Riceovi teorie pro drsnost a disperzního modelu pro optické konstanty založeného na parametrizaci hustot stavů. Depoziční rychlost byla 57 nm/min včetně 5 minutové nukleační fáze.
Související projekty:	Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek