Deposition of thin films at higher substrate temperatures in atmospheric pressure glow discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Depozice tenkých vrstev za vysších teplot substrátu v atmosférickém doutnavém výboji
Autoři	TRUNEC David ŠÍRA Martin SŤAHEL Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma FRANTA Daniel
Rok publikování	2006
Druh	Článek ve sborníku
Konference	10th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	thin films; glow discharge; atmospheric pressure
Popis	Byly nadeponovány tenké organosilikonové vrstvy v atmosférickém doutnavém výboji. Plasma bylo zapáleno v dusíku s malou příměsí monomeru hexametyldisiloxanu (HMDSO). Aby byly dosaženy vyšší tvrdosri tenkých vrstev, byla teplota substrátu zvýšena až na 120 stupňů celsia. Homogenita tenkých vrstev byla zvýšena použitím pohyblivé horní elektrody. Pomocí měření elektrických veličin bylo ukázáno použití doutnavého režimu. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly určeny indentačními technikami. Vrstvy byly transparentní ve viditelné oblasti spektra.
Související projekty:	Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku