Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani
Autoři	VAŠINA Petr HYTKOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	hysteresis; reactive sputtering
Popis	Teoretická studie vlivu teploty neutrálního plynu na chování reaktivního magnetronového naprašování
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev