Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování
Autoři	VAŠINA Petr HYTKOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive magnetron sputering; target
Popis	Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování, sborník, mezioborova studie fyzika plazmatu
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev