Modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou hustotou proudu
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	reactive magnetron sputering; target; discharge current density; racetrack
Popis	Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou hustotou proudu, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev