Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním
Autoři	ELIÁŠ Marek SOUČEK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	hybrid deposition process; hysteresis
Popis	Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, sborník
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev