Influence of N2 and CH4 on depositon rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním
Autoři	ELIÁŠ Marek SOUČEK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2008
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Chemické listy
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
www	http://www.chemicke-listy.cz/ojs3/index.php/chemicke-listy/article/view/4322/4267
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	hysteresis; reactive sputtering; hybrid deposition process
Popis	Vliv N2 a CH4 na rychlost růstu borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, článek, mezioborova studie
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev