Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?
Název česky | Lze kontrolovat otravu terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí výbojového napětí? |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2009 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron |
Popis | Kontrola otrávení terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí napětí. |
Související projekty: |