Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Potlačené hysterezní chování naprašování titanu v acetylenu
Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza VAŠINA Petr ELIÁŠ Marek
Rok publikování	2010
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. Modelling of hybrid PVD-PECVD process.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace