Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Komplexní analýza SiOxCyHz vrstev deponovaných APDBD
Autoři	SCHÄFER Jan HORN Stefan FOEST Rüdiger BRANDENBURG Ronny VAŠINA Petr WELTMANN Klaus-Dieter
Rok publikování	2011
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Surface & Coatings Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Doi	http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	SILVER NANOPARTICLES; PLASMA; JET
Popis	SiOx vrstvy byly připraveny s využitím atmosférického DBD výboje z HMDSO a silanu. Byla provedena studie vlivu parametrů výboje na složení, mikrostrukturu a tloušťku vrstvy.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek