Effect of plasma treatment on the surface morphology and wettability of (111) and (100) silicon wafers

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Efekt plazmové úpravy na morfologii a smáčivost povrchů křemíku (111) a (100)
Autoři	SKÁCELOVÁ Dana HANIČINEC Martin SŤAHEL Pavel ČERNÁK Mirko
Rok publikování	2011
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	This paper is focused on the plasma treatment of silicon surface. The effect of plasma treatment in dependence of the different crystallographic orientation of silicon surface,(100) plane and (111) plane is compare
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek