Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza SOUČEK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2011
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Hybrid PVD-PECVD process of titanium magnetron sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon for polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix (nc-TiC/a-C:H) which is an industrially attractive material for protective coatings. The aim of this contribution is to describe and understand elementary processes influencing the deposition process. Evolution of discharge voltage and current, pressure and selected spectral line intensities as a function of acetylene supply flow is reported.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy