Informace o projektu
Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
(CEPLANT plus)
- Kód projektu
- LO1411
- Období řešení
- 1/2015 - 12/2019
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Národní program udržitelnosti I (LO)
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
Projekt Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy slouží k podpoře udržitelnosti a dalšímu rozvoji centra CEPLANT vybudovaného v rámci OP VaVpI. Projekt bude zaměřen zejména na základní výzkum, který je nezbytným východiskem pro kvalitní aplikovaný výzkum v oblasti plazmových technologii.
Publikace
Počet publikací: 518
2019
-
ROTATING GLIDING ARC: INNOVATIVE SOURCE FOR VOC REMEDIATION
Plasma Physics and Technology, rok: 2019, ročník: 6, vydání: 2, DOI
-
Snížení amoniakální kontaminace v popílku ze SNCR technologie
Rok: 2019, druh: Další prezentace na konferencích
-
Solar photocatalytic disinfection using ink-jet printed composite TiO2/SiO2 thin films on flexible substrate: Applicability to drinking and marine water
Solar Energy, rok: 2019, ročník: 191, vydání: October 2019, DOI
-
Spoke behaviour in reactive HiPIMS
Rok: 2019, druh: Další prezentace na konferencích
-
Sputtered Species Ionisation and Hysteresis Behaviour of Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering
Rok: 2019, druh: Konferenční abstrakty
-
Statistical examination of spoke evolution in HiPIMS
Rok: 2019, druh: Další prezentace na konferencích
-
Strength of hydrogen-free and hydrogen-doped Ni50Ti50 shape memory platelets
Scripta Materialia, rok: 2019, ročník: 162, vydání: MAR 15 2019, DOI
-
Structure, mechanical and tribological properties of hard yet tough W-B-C coatings as a function of their chemical composition
Rok: 2019, druh: Konferenční abstrakty
-
STRUCTURING OF POLYMETHYLMETHACRYLATE SUBSTRATES BY REDUCING PLASMA
22nd Symposium on Applications of Plasma Processes (SAPP XXII) and the 11th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing, Book of Contributed Papers, rok: 2019
-
Study of graphene layer growth on dielectric substrate in microwave plasma torch at atmospheric pressure
Rok: 2019, druh: Konferenční abstrakty