Spatially resolved spectroscopy of atmospheric pressure microwave plasma jet used for surface treatment

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	POTOČŇÁKOVÁ Lucia HNILICA Jaroslav KUDRLE Vít
Rok publikování	2013
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Material processing and modification by plasma enjoys ever increasing interest of industry. Mostly for the surface related applications, OH radical is the essential element that initiates the reactions and enhances hydrophilic properties of the surface. The information about its distribution in plasma can be a valuable clue for the most effective treatment. We have investigated OH band relative intensity 2D profiles in atmospheric pressure microwave plasma jet - surfatron - by means of optical emission spectroscopy (OES).
Související projekty:	CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy