Plasma Deposition of Diamond-Like Protective Coating with Silicon Oxide Content

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Fakultu informatiky. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	DVOŘÁK Pavel ZAJÍČKOVÁ Lenka BURŠÍKOVÁ Vilma VALTR Miroslav HOUDKOVÁ J. PEŘINA V. MACKOVÁ A.
Rok publikování	2003
Druh	Článek ve sborníku
Konference	46th Annual SVC Technical Conference Proceedings
Fakulta / Pracoviště MU	Fakulta informatiky
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	Wear/abrasion-resistant coatings; Plasma enhanced CVD; Stability properties; Residual film stress
Popis	Amorphous diamond-like carbon films with various silicon and oxygen content were deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition technique. The films were prepared from the mixture of methane and hexamethyldisiloxane in rf capacitively coupled discharges. The optimum SiOx percentage in the DLC network at which the thermo-mechanical stability of the DLC films was improved was determined.
Související projekty:	Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek