Nucleation and Precipitation of Interstitial Oxygen in Czochralski Silicon

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Nukleace a precipitace intersticiálního kyslíku v Czochralského křemíku
Autoři	ŠTOUDEK Richard KLANG Pavel KUBĚNA Alan KUBĚNA Josef
Rok publikování	2006
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proceedings of The Tenth Scientific and Business Conference SILICON 2006
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	Nucleation; Precipitation; Interstitial oxygen; Silicon; Infrared absorption
Popis	Ke studiu intersticiálního kyslíku a kyslíkových precipitátů v sérii vícestupňově žíhaných křemíkových vzorků jsme použili infračervenou absorpční spektroskopii. Převzali jsme Hamovu teorii difúzí řízené precipitace. Potom jsme mohli z úbytku koncentrace Oi během vysokoteplotního žíhání stanovit koncentraci kyslíkových precipitátů ve vzorcích. Pro naměření map reciprokého prostoru těchto vzorků jsme použili trojosou rtg difrakci s vysokým rozlišením.
Související projekty:	Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur