Influence of substrate material on plasma indeposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation
| Název česky | Vliv vzorku na plazma v depozičním/odprašovacím reaktoru: experiment a počítačová simulace |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2008 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Journal of Physics D: Applied Physics |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | r.f. plasma; computer simulation; secondary electron emision; plasma deposition; plasma sputtering |
| Popis | Cílem této práce bylo zkoumání vlivu materiálu substrátu na vysokofrekvenční plazma v planparalelním reaktoru určeného pro depozici a odprašovaní tenkých vrstev za nízkých tlaků. Experimentálně bylo pozorováno, že depoziční a odprašovací rychlost je jiná nad substrátem a nad elektrodou. Navíc substrát umístěný nad buzenou elektrodou se zrcadlí v tloušťce deponované popř. odprašované tenké vrstvy přítomné na protější zemněné elektrodě. Proto byl pomocí počítačových modelu, založeného na metodě Particle In Cell/Monte Carlo, studován vliv materiálu substrátu na parametry plazmatu. Ukázali jsme, že toto zrcadlení je způsobeno rozdílem koeficientu sekundární emise substrátu a elektrody. Tento rozdíl totiž ovlivní lokálně hustotu plazmatu, a tedy i depoziční a odprašovací rychlost. |
| Související projekty: |
|