Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
Autoři	DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Popis	Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev