DEPOSITION OF THIN FILMS IN ATMOSPHERIC PRESSURE HOMOGENEOUS DISCHARGE

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Depozice tenkých vrstev v homogenním výboji za atmosférického tlaku
Autoři	TRUNEC David ŠÍRA Martin SŤAHEL Pavel BURŠÍKOVÁ Vilma
Rok publikování	2008
Druh	Článek ve sborníku
Konference	Proccedings of HAKONE X
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	electrical discharge; atmospheric pressure; nitrogen
Popis	The atmospheric pressure homogeneous discharge was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The discharge was burning in pure nitrogen used as a carrier gas and a small admixture of hexamethyldisiloxane which was used as a monomer. The temperature of the substrate was elevated up to 120 C to obtain harder thin films. The homogeneity of thin films was enhanced using movable upper electrode. Electrical measurements were used to distinguish between homogeneous and filamentary regime. Mechanical properties of deposited films were characterized by depth sensing indentation technique. The films were polymer-like, transparent in visible range, with uniform thickness and without pinholes.
Související projekty:	Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku