Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	VALTR Miroslav KLAPETEK Petr BURŠÍKOVÁ Vilma OHLÍDAL Ivan FRANTA Daniel
Rok publikování	2008
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Amorphous hydrocarbon thin films are still very attractive materials for many scientists. They are used in wide range of applications like optical devices, integrated digital circuits, micro-electromechanical devices, biomedical coatings, etc. One of the common techniques of preparation of such films is the plasma enhanced chemical vapor deposition. The properties of resulted thin films are strongly dependent on deposition parameters. Usually, continuous mode of operation is used in the deposition process, but running the deposition in pulsed mode offers another possibility to vary the material properties. One of the aspects of deposited thin film is the surface morphology, which can play a crucial role in industrial applications of the films. The aim of this work is therefore the investigation of surface parameters like roughness and autocorrelation length of thin films.
Související projekty:	Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích