Deposition of hard thin films from HMDSO in atmospheric pressure dielectric barrier discharge

• Název česky: Depozice tvrdých tenkých vrstev z HMDSO v dielektrickém bariérovém výboji za atmosférického tlaku
• Autoři: TRUNEC David; ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; STUDNIČKA Filip; SŤAHEL Pavel; PRYSIAZHNYI Vadym; PEŘINA Vratislav; HOUDKOVÁ Jana; NAVRÁTIL Zdeněk; FRANTA Daniel
• Rok publikování: 2010
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Journal of Physics D: Applied Physics
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• www: http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/22/225403/pdf/0022-3727_43_22_225403.pdf
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: thin film deposition; atmospheric pressure discharge
• Popis: Dielektrický bariérový výboj hořící za atmosférického tlaku v dusíku s příměsí hexametyldisiloxanu byl použit pro depozici tenkých organosilikonových vrstev. Tenké vrstvy byly deponovány na skleněných, křemíkových a polykarbonátových substrátech a teplota substrátu byla v průběhu depozičního procesu zvýšena na hodnoty v rozmezí 25 - 150 C za účelem získání tvrdých SiOx podobných vrstev-

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek