Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene

Varování

Publikace nespadá pod Ústav výpočetní techniky, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	SCHMIDTOVÁ Tereza SOUČEK Pavel VAŠINA Petr
Rok publikování	2011
Druh	Konferenční abstrakty
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Popis	Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon fragments polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix with good mechanical properties. The aim of this contribution is to describe and understand basic processes influencing the deposition process of such films by comparing the behaviour of basic discharge parameters on acetylene supply flow. Hybrid sputtering driven by DC power alone and together with RF substrate bias is studied.
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy