Informace o projektu
Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
- Kód projektu
- ME 367
- Období řešení
- 7/2000 - 6/2002
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Program KONTAKT (ME + MEB) (jen po projekty s počátkem řešení v roce 2010)
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Ve spolupráci s Institut fur anorganische materialien TU v Mnichově a SHM Šumperk bude prováděn vývoj a přenesení vyvinuté technologie do výrobního procesu pro nové supertvrdé nanokrystalické materiály typu TiN/AlN/SiN. Katedra fyzikální elektroniky se zaměří zejména na vývoj monitorování plazmochemických procesů probíhajících při depozici supertvdých vrstev. Bude využito zejména metod optické spektroskopie a metody sondové. Výsledkem spektrálních a sondových měření budou jednoduché detektory umož- ňující monitorování plazmochemického procesu tak, aby mechanické vlastnosti nanesených supertvrdých vrstev byly optimální. Na KFE PřF MU bude sestavena mikrovlnná aparatura typu ASTEX pro přípravu vrstev diamantového typu a vrstev typu BN. Bude rovněž vyvinuto další mikrovlnné depoziční zařízení umožňující generaci plazmatu s homogenním radiálním profilem. Bude vyvinut vysokofrekvenční generátor s induktivně buzeným plazmatem pro přípravu nanokompositních materiálů typu CN/SiO a materiálů typu CN/SiN.
Publikace
Počet publikací: 24
2000
-
Influence of admixtures on production rate of atomic nitrogen
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50-S3, vydání: 50-S3
-
Optical diagnostics of inductively coupled RF discharge during deposition of nanocomposite CNx/SiOy films
Proceedings of 20th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases, rok: 2000
-
Plasma Pencil - New Small Scale Source for Atmospheric Surface Modification
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50, vydání: S3
-
Plasmachemical Deposition of Thin Films
4th Czech-Russian Seminar on Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Temperature Plasma, rok: 2000