Informace o projektu
Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
- Kód projektu
- OC 527.20
- Období řešení
- 1/2000 - 12/2005
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- COST (jen po projekty s počátkem řešení v roce 2010)
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Cílem projektu je studium procesů probíhajích během plazmové polymerizace, kopolymerizace a modifikace povrchů pevných substrátů plazmatem. Diagnostika reaktivního plazmatu bude prováděna ve speciálním vysokovakuovém reaktoru prováděna různými prostředky - optická emisní spektroskopie, aktinometrie, hmotnostní spektrometrie, sondová měření. Ochranné vrstvy připravené z rozličných směsí monomerů a plynů jako je kyslík, argonn, metan a nanášené na plastické materiály budou optimalizovány pokud o jejich optické a mechanické vlastnosti. Bude pokračovat studium (pomocí ESR) DLC a kompozitních CNx vrstev v induktivně vázaném výboji. Mikrokrystalické diamantové a DLC vrstvy budou připravovány také v mikrovlnném reaktoru ASTEX. Vlastnosti povrchů a nanášených vrstev budou studovány pomocí eleipsometrie, měřením kontaktního úhlu, AFM, XPS, FTIR. Dále bude zkoumáno využití APG výboje při povrchové úpravě vlákenných materiálů (textil, papír, ) a nové metody restaurace archeologických nálezů.
Publikace
Počet publikací: 92
2004
-
Study of plasma processes in afterglow by means of electron spin resonance
Acta Physica Slovaca, rok: 2004, ročník: 54, vydání: 2
-
Study of the Fracture of Coating/Substrate Systems
J. Engineering MECHANICS, rok: 2004, ročník: 11, vydání: 5
2003
-
Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003
-
Deposition of polymer films by rf plasma nozle at atmospheric pressure
XV Symposium on Physics of Switching Arc, Vol I, Contributed Papers, rok: 2003
-
Deposition of thin organosilicon polymer films in atmospheric pressure glow discharge
Proceedings of 16th ISPC, rok: 2003
-
Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Proceedings of contributed papers WDS'03, rok: 2003
-
Effect of the Discharge Conditions on the Mechanical Properties of the Plasma Deposited DLC:SiOx Films
Proceedings of SAPP XIV, rok: 2003
-
Electron density measurements in pulsed microwave discharge in nitrogen gas
Proceedings of contributed papers WDS'03, rok: 2003
-
Hard carbon films: Deposition and diagnostics
Acta Physica Slovaca, rok: 2003, ročník: vol. 53, vydání: No. 5
-
Increase od Dissociation Degree in Afterglow Due to Admixtures
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003