Informace o projektu
Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
- Kód projektu
- MSM 143100003
- Období řešení
- 1/1999 - 12/2004
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Výzkumné záměry
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Výsledky
Kinetika plazmochemických rakcí a procesů depozice tenkých vrstev tvrdých a supertvrdých materiálů. Absorpční a emisní spektra plazmatu obloukových výbojů.
Publikace
Počet publikací: 402
2003
-
Optická emisní spektrometrie s indukčně vázaným plazmatem v analýze biologických materiálů
Sborník abstrakt příspěvků, 12. spektroskopická konference, rok: 2003
-
Plasma Deposition of Diamond-Like Protective Coating with Silicon Oxide Content
46th Annual SVC Technical Conference Proceedings, rok: 2003
-
Plasma potential in low-pressure capacitive r.f. discharges
WDS'03 Proceedings of contributed papers, part 2, rok: 2003
-
Plasmachemical reactors for special synthesis and decompositions
4th European Congress of Chemical Engineering, Granada, Spain,P-6.1-024, rok: 2003
-
Plazmochemická redukce a karbidizace směsných oxidů železa
Rok: 2003, vydání: Vyd. 1, počet stran: 1 s.
-
Praktická ukázka nového konstrukčního řešení plazmové tužky
Sborník z konzervátorského a restaurátorského semináře 2003 v Brně, rok: 2003
-
Production of WC and and WTi in Inductively Coupled Plasma Reactor
Int. Symp. on Plasma Chemistry, ISPC 16th, Proceedings, rok: 2003
-
Raman bands in microwave plasma assisted chemical vapour deposited films
Microelectronics Journal, rok: 2003, ročník: 2003, vydání: 34
-
Reduction of tungsten precursors in inductive rf discharge plasma reactors
High Temperature Material Processes, rok: 2003, ročník: 7/2003, vydání: 3
-
Reduction of tungsten precursors in inductively coupled RF discharge
Progress in Plasma Processing of Materials 2003, rok: 2003